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頂立科技戴煜董事長受邀參加全國新型炭材料研討會并作學(xué)術(shù)報告

發(fā)布時間:2023-08-23發(fā)布人:瀏覽:
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2023年8月14-16日,第十六屆全國新型炭材料學(xué)術(shù)研討會在山西太原召開。本次研討會由中國科學(xué)院山西煤炭化學(xué)研究所、山西省科學(xué)技術(shù)協(xié)會主辦,共有400余名來自全國高校、科研院和企業(yè)代表參會。該會議是中國碳材料學(xué)科領(lǐng)域具有代表性的學(xué)術(shù)交流會議,每兩年舉辦一次。

頂立科技戴煜董事長受邀參加全國新型炭材料研討會并作學(xué)術(shù)報告.jpg

會議以“炭纖維、石墨和碳基復(fù)合材料”、“納米炭、多孔炭和炭材料結(jié)構(gòu)表征”、“炭材料在電能存儲中的應(yīng)用及結(jié)構(gòu)調(diào)控”為主題設(shè)立三個分會場,共匯編了研究論文摘要212篇,薈萃了我國新型炭材料研究與開發(fā)的最新研究成果。

頂立科技董事長戴煜博士受邀參會,并作題為《第三代半導(dǎo)體用“四高兩涂”碳基材料的技術(shù)現(xiàn)狀及展望》學(xué)術(shù)報告。報告闡述了國內(nèi)外第三代半導(dǎo)體材料的應(yīng)用現(xiàn)狀、國產(chǎn)碳化硅單晶與國外差距的原因分析,以及頂立科技在“四高兩涂”碳基材料(即高純碳粉、高純碳化硅粉、高純石墨、高純硬氈、碳化硅涂層、碳化鉭涂層) 研究方面取得的進(jìn)展情況。

第三代半導(dǎo)體材料.jpg

頂立科技自主研制的超高溫純化設(shè)備,采用獨(dú)特的復(fù)合高溫?zé)峄瘜W(xué)提純工藝,突破了高純碳粉微量雜質(zhì)去除技術(shù),產(chǎn)品純度可達(dá)6N以上;自主研制的化學(xué)氣相沉積裝備,突破了TaC涂層制備關(guān)鍵技術(shù),其產(chǎn)品性能達(dá)到國際先進(jìn)水平,實(shí)現(xiàn)了第三代半導(dǎo)體用關(guān)鍵材料與裝備的自主可控與產(chǎn)業(yè)化。

石墨提純系統(tǒng).jpg

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